PLASCALC-2000等離子監(jiān)控系統(tǒng)描述

PLASCALC-2000等離子監(jiān)控系統(tǒng)配有2048像元CCD高分辨率的光譜儀，等離子體光輻射測量范圍為200-1100nm，PlasCalc-2000進程控制系統(tǒng)精確可靠，其精密的數(shù)據(jù)采集和控制算法格外具有優(yōu)勢，對PC的模擬和數(shù)字輸入輸出功能也簡化了進程控制過程。PlasCalc-2000及其軟件系統(tǒng)在數(shù)據(jù)采集和信號處理上非常方便，波長、測量模式編輯器可以迅速產(chǎn)生有效的測量模式及各種測量模式的組合，適合于控制系統(tǒng)。

PlasCalc-2000參數(shù)

200-1100nm光譜的范圍

1.0nm全高半寬分辨率
14位I/O D/A轉(zhuǎn)換
8個TTL數(shù)字I/O端口
4個0-10V模擬輸出端口
USB1.1接口

參數(shù)

多達6通道的寬帶光譜數(shù)據(jù)采集
每個通道都可以獨立配置光譜范圍
小于0.3nm的光學分辨率
16個TTL數(shù)字I/O端口
8個1-10V模擬輸出端口
USB2.0接口

應(yīng)用

通用過程監(jiān)控
表面清潔過程
保護膜
等離子體刻蝕
等離子室設(shè)備健康水平監(jiān)控
非常規(guī)過程處理
多晶硅平整化處理
新的加工過程優(yōu)化和監(jiān)控